SK하이닉스의 반도체 핵심 기술을 중국에 유출하고, 삼성전자 자회사 세메스의 장비 도면을 빼돌린 혐의로 기소된 협력사 부사장이 실형을 선고받았다.
서울중앙지법 형사합의25-3부(지귀연 박정길 박정제 부장판사)는 13일 산업기술보호법 위반·부정경쟁방지법 위반(영업비밀 국외누설 등) 등의 혐의로 기소된 SK하이닉스 협력업체 부사장 A(59)씨에게 징역 1년을 선고했다. 다만 법정구속은 하지 않았다.
법원은 해당 법인에는 벌금 4억원을 선고했다. 함께 기소된 직원 7명은 징역 8개월에서 1년6개월의 집행 유예 또는 벌금형 등의 선고를 받았다.
재판부는 "공동 개발 결과물이 아닌 레시피를 평소 몰래 수집하거나 양말에 USB를 넣어 취득해 국외로 유출한 혐의를 모두 유죄로 판단했다"며 "세메스와 관련해서는 인적 네트워크를 이용해 (정보를) 부정하게 취득했다"고 밝혔다.
이어 "레시피와 국가 핵심기술인 HKMG 관련 공정 기술을 유출했으며, 세메스 정보를 몰래 취득해 초임계 세정장비를 개발해 공정한 경쟁 질서를 위협하는 등 죄질이 좋지 않다"며 "일반 산업 스파이가 해외로 유출하는 것과는 궤를 달리하는 점도 감안했다"고 양형 이유를 추가 설명했다.
A씨 등은 또한 SK하이닉스와의 협업을 통해 알게 된 HKMG 반도체 제조 기술과 등 반도체 관련 핵심 기술과 첨단 기술, 영업 비밀을 2018년께부터 중국 반도체 경쟁 업체로 유출한 혐의 등을 받았다. HKMG는 누설 전류를 막고 정전 용량을 개선한 차세대 공정으로, D램 반도체의 속도를 빠르게 하는 동시에 소모 전력을 줄일 수 있는 신기술이다.
아울러 이들은 삼성전자와 자회사인 세메스의 전 직원들을 통해 몰래 취득한 초임계(액체와 기체를 구분할 수 없는 상태) 세정 장비 도면 등 반도체 첨단 기술과 영업 비밀을 이용해 중국 수출용 장비를 개발한 혐의도 있다. 이 장비는 초임계 이산화탄소로 반도체 기판을 세정해 손상을 최소화하는 차세대 기술이다. 산업통상자원부가 국가핵심기술로 지정한 바 있다.
다만 재판부는 SK하이닉스와 공동 개발한 세정 장비 사양을 다른 업체에 알려준 혐의는 무죄로 판단했다. 공동 개발 계약서상 대외 발표만 금지한다는 조항이 있기 때문이다.
앞서 검찰은 국가정보원 산업기밀 보호센터로부터 유출 정보를 받고 수사에 돌입해 2021년 1월 이들을 기소했다. 이번 선고로 HKMG 반도체 제조 기술의 추가 유출을 막고, 유출 기술을 사용해 만든 반도체 초임계 세정 장비의 중국 수출도 차단했다고 검찰은 설명했다.
